- PII
- 10.31857/S2686740023050036-1
- DOI
- 10.31857/S2686740023050036
- Publication type
- Status
- Published
- Authors
- Volume/ Edition
- Volume 512 / Issue number 1
- Pages
- 44-50
- Abstract
- The paper presents several statements of the problems of synthesis of holographic mask in the form of optimization problems for quality of holographic images. An effective algorithm for the synthesis of holographic masks based on FFT with complexity O(NlnN), where N is the number of elements of the depicted object, is described. Based on this algorithm, a scalable software package has been developed and implemented that allows synthesizing holographic masks for various lithography applications, including the production of MEMS, MOEMS and high-end chips. Experimental results are presented.
- Keywords
- дифракция компьютерно-синтезированные голограммы оптимизация фотолитография
- Date of publication
- 16.09.2025
- Year of publication
- 2025
- Number of purchasers
- 0
- Views
- 12
References
- 1. Борисов М.В., Боровиков В.А., Гавриков А.А., Князьков Д.Ю., Раховский В.И., Челюбеев Д.А., Шамаев А.С. Методы создания и коррекции качества голографических изображений геометрических объектов с элементами субволновых размеров // ДАН. 2010. Т. 434. № 3. С. 332–336.
- 2. Rakhovsky V., Knyazkov D., Shamaev A., Chernik V., Gavrikov A., Chelyubeev D., Mikheev P., Borisov M. // Proc. European Mask and Lithography Conference. SPIE. 2012. V. 8352. 83520P.
- 3. Черник В.В. // Журнал Радиоэлектроники. 2017. № 1. С. 1–20.
- 4. Gabor D.A. // Nature. 1948. № 161. P. 777–778.
- 5. Колфилд Г. Оптическая голография. М.: Мир, 1982. 376 с.
- 6. Mack C.A. Fundamental Principles of Optical Lithography: The Science of Microfabrication.: John Wiley & Sons, 2007. 417 p.
- 7. Басс Ф.Г., Фукс И.М. Рассеяние волн на статистически неровной поверхности. М.: Наука, 1972. 424 с.
- 8. Черник В.В. // Труды VI международной конференции “Параллельные вычисления и задачи управления”. PACO’2012. Т. II. 2012.
- 9. Михеев П.А. // Вестн. Моск. ун-та. Сер. 15: Вычислительная математика и кибернетика. 2014. Т. 1. С. 15–22.
- 10. Borisov M., Chernik V., Merkushov L., Shamaev A., Rakhovski V., Chelubeev D. // Proc. SPIE 11324. Novel Patterning Technologies for Semiconductors. MEMS/NEMS and MOEMS. 2020. XXXIV. 113241J (2020) https://doi.org/10.1117/12.2552013
- 11. Borisov M., Chernik V., Shamaev A., Rakhovski V., Chelubeev D. // Proc. SPIE 11324. Novel Patterning Technologies for Semiconductors, MEMS/NEMS and MOEMS. 2020. XXXIV; 1132417 (2020). https://doi.org/10.1117/12.2551936
