Описаны эффективные алгоритмы синтеза голографических масок на основе БПФ со сложностью O(NlnN), где N – количество элементов изображаемого объекта. Разработан и внедрен масштабируемый программный комплекс, позволяющий синтезировать голограммные маски для различных приложений литографии, включая производство МЭМС, MOEMС и микросхем высокого класса. Предложены решения проблем оптимизации качества голографических изображений и повышения дифракционной эффективности.
Индексирование
Scopus
Crossref
Высшая аттестационная комиссия
При Министерстве образования и науки Российской Федерации