Исследован процесс наноабляции поверхности алмаза УФ-излучением наносекундной длительности с высокой частотой повторения лазерных импульсов. Особое внимание уделено изменению флуоресцентных свойств алмаза в зоне облучения. Обнаружено, что при сопоставимой скорости травления (10…10 нм/импульс) наносекундное воздействие не приводит к генерации центров окраски (в частности, NV-центров), нарабатываемых в значительных количествах при воздействии фемтосекундными импульсами. Проанализированы особенности ультрананоабляции при низких давлениях и, впервые, отмечено заметное изменение оптических свойств алмазной поверхности в зоне воздействия, связанное с формированием поверхностного нанорельефа и квазипериодических структур (~100 нм).
Indexing
Scopus
Crossref
Higher Attestation Commission
At the Ministry of Education and Science of the Russian Federation