- Код статьи
- 10.31857/S2686740023050036-1
- DOI
- 10.31857/S2686740023050036
- Тип публикации
- Статус публикации
- Опубликовано
- Авторы
- Том/ Выпуск
- Том 512 / Номер выпуска 1
- Страницы
- 44-50
- Аннотация
- Описаны эффективные алгоритмы синтеза голографических масок на основе БПФ со сложностью O(NlnN), где N – количество элементов изображаемого объекта. Разработан и внедрен масштабируемый программный комплекс, позволяющий синтезировать голограммные маски для различных приложений литографии, включая производство МЭМС, MOEMС и микросхем высокого класса. Предложены решения проблем оптимизации качества голографических изображений и повышения дифракционной эффективности.
- Ключевые слова
- дифракция компьютерно-синтезированные голограммы оптимизация фотолитография
- Дата публикации
- 01.03.2023
- Год выхода
- 2023
- Всего подписок
- 0
- Всего просмотров
- 45
Библиография
- 1. Борисов М.В., Боровиков В.А., Гавриков А.А., Князьков Д.Ю., Раховский В.И., Челюбеев Д.А., Шамаев А.С. Методы создания и коррекции качества голографических изображений геометрических объектов с элементами субволновых размеров // ДАН. 2010. Т. 434. № 3. С. 332–336.
- 2. Rakhovsky V., Knyazkov D., Shamaev A., Chernik V., Gavrikov A., Chelyubeev D., Mikheev P., Borisov M. // Proc. European Mask and Lithography Conference. SPIE. 2012. V. 8352. 83520P.
- 3. Черник В.В. // Журнал Радиоэлектроники. 2017. № 1. С. 1–20.
- 4. Gabor D.A. // Nature. 1948. № 161. P. 777–778.
- 5. Колфилд Г. Оптическая голография. М.: Мир, 1982. 376 с.
- 6. Mack C.A. Fundamental Principles of Optical Lithography: The Science of Microfabrication.: John Wiley & Sons, 2007. 417 p.
- 7. Басс Ф.Г., Фукс И.М. Рассеяние волн на статистически неровной поверхности. М.: Наука, 1972. 424 с.
- 8. Черник В.В. // Труды VI международной конференции “Параллельные вычисления и задачи управления”. PACO’2012. Т. II. 2012.
- 9. Михеев П.А. // Вестн. Моск. ун-та. Сер. 15: Вычислительная математика и кибернетика. 2014. Т. 1. С. 15–22.
- 10. Borisov M., Chernik V., Merkushov L., Shamaev A., Rakhovski V., Chelubeev D. // Proc. SPIE 11324. Novel Patterning Technologies for Semiconductors. MEMS/NEMS and MOEMS. 2020. XXXIV. 113241J (2020) https://doi.org/10.1117/12.2552013
- 11. Borisov M., Chernik V., Shamaev A., Rakhovski V., Chelubeev D. // Proc. SPIE 11324. Novel Patterning Technologies for Semiconductors, MEMS/NEMS and MOEMS. 2020. XXXIV; 1132417 (2020). https://doi.org/10.1117/12.2551936
